分離係統 MORPH KDP^®
革新型大流量敞開式動態分離係統為第四代分離技術，已獲國家發明專利

納米砂磨機之高效離心分離係統 MORPH KDP^®革新型大流量敞開式動態分離係統可以使用0.1mm 的研磨介質，已經獲得國家發明（CN102872936A，CN204816715U，ZL 2015 1 0372820.8）。
不同研磨介質大小適用同一個分離裝置，無需更換分離裝置，是其它棒銷式研磨機無法實現的。
無縫隙堵塞。無金屬磨損碎片汙染。重要的是研磨機壓力增長低，因此可以達到大流量高速進料。
長時間運行後，因磨耗而減小研磨介質大小也沒有問題。
研磨介質可為球形體 (適合硬度大的，粗顆粒) 。
來自產品的雜質 (大顆粒、纖維、…) 以及少量的粗料也是沒有問題的。它們與產品懸掛一起從機器中衝洗出來，並在冗餘形狀的外部分離器上分開。
KDP 係統的優點可以完全拆卸，易於清洗。
該研磨係統可用於鋼 / 氧化鋯 / 碳化矽 /氮化矽／聚氨酯。